В России создан опытный образец 130 нанометрового литографа для чипов

14.08.2026

Источник: е пром

В России завершена разработка литографа – установки проекционного переноса изображений для производства интегральных схем с нормами 130 нм, сообщило издание CNews. Оборудование создано Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) совместно с белорусской компанией «Планар».

Ключевые факты:

Установка предназначена для пластин диаметром до 200 мм и проектной нормы 130 нм.

Главная особенность — использование эксимерного лазера с длиной волны 193 нм, что соответствует мировым стандартам DUV-литографии.

Общий бюджет опытно-конструкторских работ от Минпромторга — 5,7 млрд руб., стоимость третьего этапа — 2,46 млрд руб.

Серийные поставки планируются с 2027 года.

По оценке экспертов, создание установки доказывает наличие инженерных компетенций и открывает путь к нормам 90 и 65 нм. При этом от образца до промышленной эксплуатации путь еще значительный.

Емкость российского рынка для таких установок оценивается в 15–25 единиц до 2030–2032 гг. с учетом износа текущего парка зарубежных машин. Производство будет штучным, мелкосерийным. Ранее ЗНТЦ уже создал серийный фотолитограф на 350 нм и установку электронно-лучевой литографии на 150 нм.

Возврат к списку

Уральское управление

В России создан опытный образец 130 нанометрового литографа для чипов